菲沃泰：卡位DUV光刻机独家核心设备耗材，国产化空间巨大！

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### 菲沃泰：卡位DUV光刻机独家核心设备耗材，国产化空间巨大！ 时间：2026-07-29 13:23:43 内容：光刻机国产化是明确的战略趋势，也是目前半导体设备国产化渗透率最低、理论空间最大的方向。近期与ASML交流得知，EUV产品订单排期已经到2年后。可重点关注菲沃泰，其浸润式DUV光刻机镀膜处于国内独供地位。独家攻克DUV光刻机核心膜层。公司作为纳米级表面处理领军者，成功打破海外垄断，成为目前国内浸润式DUV光刻机相关镀膜的唯一供应商。公司独家掌握有机无机杂化配方技术，解决了超疏水与耐紫外无法共存的行业难题，可制备100纳米半导体级平整度的膜层，该技术国内暂无其他厂商能够实现。…