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中文会议纪要

高端铜箔需求现状与出货节奏

会议日期: 2026-07-24会议类型: 专家交流地区: 国内会议

公开摘要

本次会议聚焦AI服务器拉动的高端铜箔需求爆发,特别是HVLP铜箔的供需缺口、价格趋势及国产化进展。核心结论:1)英伟达GB及Rubin平台驱动HVLP3/4需求激增,2026年6月起出货量环比大幅增长,全年需求预计为2025年翻倍;2)HVLP铜箔供需缺口持续扩大,海外供应商扩产缓慢,国内供应商成为补充主力,价格持续上涨,国内加工费已接近海外水平;3)国产H

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